Tableau 66 – Rhinites et asthmes professionnels

Retrouvez le tableau 66 du régime général des maladies professionnelles lié aux Rhinites et asthmes professionnels

Rhinites et asthmes professionnels

LISTE LIMITATIVE DES TRAVAUX SUSCEPTIBLES de provoquer ces maladies :

1. Travail en présence de toute protéine en aérosol.

2. Elevage et manipulation d’animaux (y compris la préparation et le conditionnement d’arthropodes et de leurs larves).

3. Utilisation et conditionnement de carmin et poudres d’insectes.
4. Préparation et manipulation des fourrures et feutres naturels.
5. Préparation, emploi, manipulation de produits contenant de la séricine.
6. Emploi de plumes et de duvets.
7. Travaux exposant aux résidus d’extraction des huiles, notamment de ricin et d’ambrette.
8. Broyage des grains de céréales alimentaires, ensachage, utilisations de farines.
9. Préparation et manipulation des substances d’origine végétale suivantes : ipéca, quinine, henné, pollens et spores, notamment de lycopode.
10. Ouverture des balles, cardage, peignage, filature et tissage de textiles d’origine végétale (notamment coton, sisal, kapok, chanvre, lin).
11. Travaux comportant l’emploi de gomme végétales : pulvérisées (arabique, adragante, psyllium, karaya notamment).
12. Préparation et manipulation du tabac.
13. Manipulation du café vert et du soja.
14. Exposition à des poussières végétales, notamment asparagées, légumineuses, papilionacés, ombellifères, labiées, solanacées, pyrèthres.
15. Manipulation de gypsophile (Gypsophila paniculata).
16. Manipulation ou emploi des macrolides (notamment spiramycine et oléandomycine), de médicaments et de leurs précurseurs, notamment : glycols, salbutamol, pipérazine, cimetidine, hydralazine, hydralazine de l’acide nicotinique (isoniazide), chlorure d’acide de la phényl glycine, tétracyclines, alpha-méthyl-dopa.
17. Travaux exposant aux sulfites, aux bisulfites ou aux persulfates alcalins. 18. Préparation, emploi, manipulation de chloroplatinates pentoxyde de vanadium, notamment dans la fabrication des catalyseurs.
19. Travaux exposant à l’inhalation d’anhydrides d’acides volatils, notamment anhydrides maléique, phtalique, trimellitique, tétrachlorophtalique, hexahydrophtalique, himique.
20. Fabrication, manipulation et utilisation de fungicides, notamment les phtalimide et tetrachlorophtalonitrile.
21. Travaux exposant à la colophane chauffée, notamment de la soudure en électronique.
22. Travaux exposant à des émanations de produits de pyrolyse du chlorure de polyvinyle (notamment dans sa soudure thermique), fréons, polyéthylène, polypropylène.
23. Travaux exposant à l’azodicarbonamide, notamment dans l’industrie des plastiques et du caoutchouc et au styrène, isophoronediamine, aziridine polyfonctionnelle, triglycidyl isocyanurate.
24. Préparation et mise en œuvre de colorants, notamment à hétérocycles halogénés, acryloylamines ou vinyl-sulfones, pipéridinyl triazine, ninhydrine.
25. Préparation et utilisation de colles au cyanoacrylate.
26. Travaux exposant à des émanations de glutaraldéhyde.
27. Travaux exposant à des émanations d’oxyde d’éthylène, notamment lors de la stérilisation.
28. Travaux de désinfection et de stérilisation exposant à des émanations de : chlorhexidine, hexachlorophène, benzisothiazoline-3-one et ses dérivés, organomercuriels, ammoniums quaternaires et leurs dérivés, notamment le benzalkonium et le chlorure de lauryl dimethylbenzylammonium.
29. Fabrication et utilisation de détergents, notamment l’isononanoyl oxybenzène sulfonate de sodium.
30. Fabrication et conditionnement de chloramine T.
31. Fabrication et utilisation de tétrazène.
32. Synthèse des polypeptides exposant notamment au dicyclohexyl carbodiimide, 4méthyl-morpholine, dichlorobenzène sulfonate.
33. Travaux de reprographie exposant notamment aux sels de diazonium ou à l’hydroquinone.
34. Travaux exposant aux dérivés aminés des produits chlorés tels que la chloramine dans les piscines.

Pour en savoir plus

• Tableau n° 66 En savoir plus sur cet article…
• Modifié par Décret n°2003-110 du 11 février 2003 – art. 2 JORF 13 février 2003
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